Sistem salutan vakum gred{0}}perindustrian yang menyepadukan percikan magnetron (RF/DC/HiPIMS) dan penyejatan arka katodik. Direka bentuk untuk pemendapan filem nipis-berbilang lapisan, aloi dan nano{3}}komposit berterusan-pada skala pengeluaran.
Spesifikasi Teknikal
|
Parameter |
Nilai Spesifikasi |
|
Tekanan Vakum Muktamad |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and roots-rotary pump configuration) |
|
Dimensi Dewan |
Saiz tersuai daripada D 600 mm x 600 mm hingga D 1500 mm x 1500 mm (304/316L elektro-keluli tahan karat yang digilap) |
|
Sumber Pemendapan |
Boleh dikonfigurasikan: 2-6 magnetron sputtering katod / 2-4 sumber arka |
|
Kuasa Bias Substrat |
0 hingga -1000 VDC boleh laras (DC berdenyut untuk substrat dielektrik) |
|
Keseragaman Ketebalan Filem |
<= +/- 3% across standard planar holder (via dynamic planetary rotation) |
|
Suhu Substrat |
Ambien hingga 650 darjah (+/- 2 darjah PID tertutup-kawalan gelung) |
|
Pengagihan Kuasa |
RF (13.56 MHz), DC, Pulsed DC dan Mid{1}}Frequency (MF) dengan penindasan arka |
Ciri-ciri Utama
Penyepaduan-Dwi Teknologi:Menggabungkan sputtering (filem kompaun licin, amorfus) dan arka katodik (pemendapan logam/aloi pengionan tinggi-tinggi) dalam satu kitaran bawah-pam.
Tertutup-Pengurusan Gas Gelung:Pengawal Aliran Massa (MFC) dipasangkan dengan pemantauan pelepasan optik (OEM) menstabilkan tekanan separa gas reaktif.
Pengasingan Mekanikal:Pemacu planet berbilang-paksi mengasingkan galas mekanikal daripada zon proses, menghalang pencemaran zarah.
Seni Bina Terma:Dinding bilik yang disejukkan-air berdinding dua-dan perisai sinaran menghalang herotan haba semasa-operasi kuasa tinggi.
Teras Automasi:Seni bina Siemens S7-1500 PLC dan WinCC SCADA untuk pemantauan interlock, gas dan kuasa masa nyata.
Konfigurasi Sistem Vakum
Kereta Api Kasar:Terus-pacu pam ram putar yang disokong oleh peniup Akar dengan pengedap bendalir magnetik.
Vakum Tinggi:Pam molekul turbo-magnet (1200 - 3200 L/s) atau pam kriogenik.
Diagnostik:Port ujian spektrometer jisim Helium bersepadu dan interlock penjujukan automatik.
Keserasian Bahan & Substrat
Bahan Sasaran:
logam:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, TiAl, CrAl, Si
Seramik/Sebatian:TiN, CrN, TiAlN, DLC, Al2O3, SiO2
Substrat:Keluli Alat (H13, M2, sisipan karbida), aloi struktur Titanium/Aluminium, seramik kejuruteraan dan wafer silikon.
Aplikasi & Prestasi Terbukti
Alat Memotong:Geseran-rendah,-tinggi{1}}berbilang lapisan-salutan (TiAlN/TiN) untuk memanjangkan hayat alat di bawah pemesinan-tinggi kering.
Automotif:Pakai dan salutan anti-cacat untuk gelang omboh dan pin suntikan bahan api.
Aeroangkasa:Pengoksidaan-penghalang haba dan filem pelindung pada bilah pemampat dan pengikat.
Optik & Elektronik:Oksida lutsinar konduktif (ITO) dan penapis gangguan optik.
Pilihan Penyesuaian
Geometri Bilik:Konfigurasi kotak segi empat tepat untuk pemuatan rak kelompok atau geometri sebaris silinder.
Perbaikan semula Sumber:Bebibir pemasangan katod yang boleh ditukar ganti untuk penukaran medan kepada CFUBMS.
Goresan Plasma:Senapang ion jenis Kaufmann-atau sumber katod berongga untuk-pembersihan substrat in situ.
Kawalan Kualiti & Ujian Kilang
Integriti vakum:Ambang ujian kebocoran helium<= 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Kemasan Permukaan:Elektro kimpalan dalaman ruang-digilap kepada Ra<= 0.4 um.
LEMAK:Ujian larian kering berterusan selama 72 jam, gerakan dan gelung kunci keselamatan sebelum peti.
Piawaian Pematuhan:Dibina mengikut arahan jentera CE dan piawaian ISO 9001. (Ikon Lencana Amanah: ISO 9001, CE, UL)
Pemasangan & Sokongan Teknikal
Himpunan Dokumentasi:Skema P&ID, gambar rajah pendawaian elektrik, logik sumber PLC dan dosiers pematuhan CE/UL.
Pentauliahan:Jurutera lapangan mengawasi kedudukan mekanikal, sambungan utiliti, dan pengesahan semakan kebocoran.
SAT & Penyerahan Resipi:Pada-larian ujian garis dasar dan pengoptimuman resipi.
Soalan Lazim
S: Apakah masa turun pam-ke tekanan asas?
A: Mencapai < 5.0 x 10^-4 Pa dalam masa 45 minit dalam keadaan terma yang bersih, kering dan ambien.
S: Bolehkah sistem bertukar antara DC dan RF sputtering pertengahan-proses?
A: Ya. Matriks kuasa membenarkan penjujukan perisian-terkawal antara DC, DC berdenyut dan RF tanpa memecahkan vakum.
S: Apakah utiliti yang diperlukan di-tapak?
A: Air sejuk (15 hingga 20 darjah pada 0.3 hingga 0.4 MPa), udara termampat (0.6 MPa),-gas proses ketulenan tinggi (Ar, N2, O2 pada 99.999%) dan kuasa industri 3 fasa khusus.
S: Bagaimanakah suhu substrat dikawal semasa pemendapan?
J: Pirometer inframerah bersepadu digandingkan dengan tebing pemanas berseri dan kawalan gelung-PID tertutup.
Cool tags: Sistem filem nipis komposit pvd, pengeluar sistem filem nipis komposit pvd China, pembekal, kilang
