Penerangan Produk

 
Gambaran Keseluruhan Keupayaan Proses

 

Pvdcvd.com mengendalikan kemudahan pemendapan vakum khusus yang direka bentuk untuk salutan filem-kepersisan tinggi-dan pengubahsuaian permukaan. Kami menyediakan perkhidmatan salutan kontrak untuk komponen industri yang memerlukan rintangan haus, geseran rendah, perlindungan kakisan atau sifat elektrik dan terma tertentu. Infrastruktur kami menyokong peralihan skala daripada pengesahan kupon awal kepada pengeluaran berterusan.

 

Bahan Substrat
 

Kami menggunakan salutan PVD dan CVD pada pelbagai substrat kejuruteraan. Metalurgi substrat,-tindak balas prarawatan dan kestabilan terma menentukan pemilihan parameter kami.

Keluli Alat & Mati:

Siri AISI H13, D2, M2, CPM (ambang suhu pembajaan dihormati).

Karbida & Sermet:

Kobalt-terikat tungsten karbida (WC-Co) memotong dan membentuk sisipan.

Logam Refraktori & Reaktif:

Aloi titanium (Ti-6Al-4V), Inconel, Monel, dan keluli tahan karat (304, 316, 17-4PH).

Seramik Teknikal & Kuarza:

Alumina, silikon nitrida dan silika bercantum untuk semikonduktor dan lekapan suhu-tinggi.

 

Penyediaan Permukaan

 

 

Lekatan salutan bergantung pada kebersihan antara muka dan topografi. Bahagian menjalani protokol pra{1}}sebelum masuk ke ruang.

Pembersihan Akueus Ultrasonik:

Penyahgris ultrasonik berbilang-peringkat untuk membuang sisa minyak pemesinan dan zarah.

 

Letupan Melelas / Letupan Mikro-:

Letupan pasir terkawal (menggunakan alumina atau manik kaca) untuk melaraskan kekasaran permukaan (Ra) dan tapak penambat mekanikal.

 

Dalam-Etsa Plasma Bilik:

Pengeboman ion argon dilakukan serta-merta sebelum pemendapan untuk memercikkan oksida asli dan mengaktifkan permukaan substrat pada tahap atom.

 

 

Proses Pemendapan

Kemudahan kami menempatkan ruang vakum modular yang dikonfigurasikan untuk seni bina-filem nipis tertentu.

 
 

Arka PVD (Penyejatan Arka Katodik):

 

Kadar pengionan tinggi menghasilkan filem unggul-kepada-lekatan substrat untuk-alat pemotong tugas berat dan acuan pengecap.

 
 
 

Sputtering (Sputtering Magnetron):

 

Konfigurasi magnetron DC dan RF memberikan salutan licin, bebas titisan,{0}}sekata untuk optik ketepatan dan elektronik.

 
 
 

PECVD (Plasma-Pemendapan Wap Kimia Dipertingkat):

-pemendapan suhu rendah berlian-seperti filem berasaskan karbon (DLC) dan silikon-untuk aplikasi tribologi.

 

 

Bahan Salutan

Kami mendepositkan lapisan-satu, berbilang-lapisan, komposit nano-dan salutan kecerunan yang disesuaikan dengan beban operasi tertentu.

Nitrida & Karbida Logam Peralihan:
TiN, TiAlN, AlTiN, CrN, TiCN.
Berlian-Seperti Karbon (DLC):
DLC (WC/C) terhidrogenasi (a-C:H) dan tungsten-untuk pekali geseran yang rendah.
Oksida & Filem Khusus:
Alumina (Al₂O₃) dan sistem aloi berbilang-komponen.

 

Prestasi Salutan
 
 

Metrik prestasi disahkan di bawah protokol ujian piawai untuk memadankan permintaan aplikasi.

 

Kekerasan:

20 hingga 45 GPa (diukur melalui lekukan nano-bergantung pada komposisi).

 
 

Kekuatan Lekatan:

Penarafan HF1 hingga HF2 pada ujian lekukan Rockwell C; beban kritikal (Lc) melebihi 40 N pada ujian calar.

 
 

Pekali Geseran (CoF):

0.05 hingga 0.15 terhadap keluli (keadaan gelongsor kering untuk sistem DLC).

 
 

Rintangan Suhu:

Kestabilan operasi sehingga 700 darjah dalam atmosfera pengoksidaan (untuk-aloi nitrida tinggi).

 

 

 
Kawalan Proses

Kebolehulangan memerlukan-pemantauan parameter gelung tertutup merentas setiap larian.

Tahap vakum:

-Tekanan asas vakum tinggi hingga 5 × 10⁻⁴ Pa melalui tatasusunan pengepaman molekul dan kriogenik turbo-.

Aliran Gas & Tekanan Separa:

Pengawal aliran jisim (MFC) mengawal suntikan gas reaktif (N₂, Ar, asetilena) dalam toleransi ±1%.

Voltan & Arus Pincang:

Bekalan kuasa pincang DC berdenyut mengawal pengeboman tenaga ion untuk mengawal ketumpatan filem dan tekanan sisa.

Peraturan Terma:

Termokopel-pemanasan substrat yang dipantau dan perisai berseri mengekalkan suhu proses sasaran dalam ±5 darjah .

 

Pemeriksaan & Pengujian Kualiti
 

Geometri masuk dan sifat filem keluar menjalani pengesahan yang ketat.

Pengukuran Ketebalan:

Kaedah kawah bola-yang ditentukur (ujian-Calo) dan-sinar X (XRF).

Ujian Lekatan:

Ujian lekatan lekatan Rockwell (ASTM C1624 / VDI 3198) dan penguji calar automatik.

Topografi Permukaan:

Profilometri optik bukan hubungan-untuk Ra, Rz dan pemetaan ketumpatan kecacatan.

Kebolehkesanan:

Dokumentasi pengembara kumpulan individu yang memautkan log larian relau, resipi gas dan tandatangan pengendali.

 

Salutan Sampel & Pengesahan Proses

Penyepaduan komponen baharu mengikut aliran kerja kejuruteraan berstruktur.

Semakan Bahagian:

Penilaian kejuruteraan bagi geometri bahagian, keperluan penyamaran, dan timbunan toleransi.

01

Salutan Percubaan:

Memproses kupon atau bahagian percubaan pelanggan awal-di bawah parameter garis dasar.

02

Penilaian:

Ujian prestasi sisi pelanggan-(ujian bangku atau ujian lapangan).

03

Penguncian Parameter:

Memuktamadkan Helaian Proses (Resipi) untuk membekukan pembolehubah pemendapan untuk pengeluaran masa hadapan.

04

 

Pembangunan Proses Tersuai

Resipi katalog standard tidak memenuhi setiap keperluan permohonan. Pasukan kejuruteraan kami bekerjasama dengan kumpulan R&D pelanggan untuk merumuskan seni bina salutan tersuai dan set parameter.

Reka Bentuk Seni Bina Salutan:

Kejuruteraan struktur filem nipis-berbilang lapisan, kecerunan atau nano-komposit-yang disesuaikan dengan beban tribologi, haba atau kimia tertentu.

Ujian Keserasian Substrat:

Membangunkan interlayer khusus dan -laluan pemendapan suhu rendah untuk aloi reaktif atau suhu-sensitif.

Lelaran Prototaip:

Percubaan pemendapan pantas pada-kupon yang dibekalkan oleh pelanggan diikuti dengan{1}}pemeratan rentas metalurgi dan analisis lekatan.

Skala Pengeluaran:

Menterjemah resipi makmal yang disahkan ke dalam helaian pengeluaran kumpulan-volume tinggi yang mantap dengan kawalan parameter terkunci.

 

 

Soalan Lazim Keupayaan Proses

 

 

S: Apakah kapasiti ruang maksimum anda untuk pemprosesan kelompok?

J: Ruang pemendapan menegak terbesar kami memuatkan komponen sehingga 800 mm diameter dan 1200 mm tinggi, dengan had berat maksimum 500 kg setiap kelompok.

S: Bolehkah anda menutup kawasan tertentu di mana salutan tidak dibenarkan?

A: Ya. Kami menggunakan pelindung mekanikal dan sebatian pelindung suhu tinggi-yang khusus untuk melindungi jurnal galas, lubang berulir atau datum mengawan daripada pemendapan.

S: Apakah masa pemulihan biasa untuk prototaip dan salutan sampel?

J: Pemulihan sampel standard ialah 5 hingga 7 hari perniagaan selepas menerima bahagian yang dibersihkan dengan betul di kemudahan kami.

S: Bagaimanakah anda menghalang pelembutan substrat semasa proses PVD{0}}suhu tinggi?

J: Kami memilih suhu pemendapan dengan ketat di bawah ambang pembajaan keluli alat asas (biasanya mengekalkan suhu proses di bawah 450 darjah untuk keluli H13 standard).

Hubungi kamijika anda mempunyai sebarang soalan

Anda boleh sama ada menghubungi kami melalui telefon, e-mel atau borang dalam talian di bawah. Pakar kami akan menghubungi anda kembali sebentar lagi.

Hubungi sekarang!