Gambaran Keseluruhan Produk

 

Peralatan Filem Nipis Komposit PVD ialah platform pemendapan vakum industri yang direka bentuk untuk mendepositkan filem nipis berbilang-lapisan, aloi dan nanokomposit. Mengintegrasikan sumber sputtering magnetron dan arka katodik dalam ruang vakum tunggal, sistem ini membolehkan kawalan tepat ke atas struktur mikro filem, tekanan sisa dan lekatan antara muka. Dibina untuk pengeluaran berterusan dan R&D lanjutan, platform ini memuatkan substrat logam, seramik dan polimer dengan geometri ruang berskala.

 
 
Spesifikasi Teknikal

 

Parameter

Julat Spesifikasi

Tekanan Vakum Muktamad

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Tekanan Kerja

0.1 Pa - 5.0 Pa

Suhu Substrat

Ambien hingga 800 darjah (Tertutup-gelung PID dikawal)

Sumber Pemendapan

Boleh dikonfigurasikan: Sputtering Magnetron DC/RF, DC Berdenyutan, Arka Katodik Ditapis

Keseragaman Ketebalan

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Bahan Dewan

Keluli Tahan Karat 304L/316L, tanah mekanikal dan elektro-digilap (Ra<= 0.4 um)

Integrasi Bekalan Kuasa

Penjana MF (10-100 kHz), penjana RF (13.56 MHz), Pincang DC berdenyut

Sistem Kawalan

PLC industri + IPC dengan pelaksanaan resipi automatik, pemantauan saling kunci dan pengelogan data kelompok

 

Proses Pemendapan Komposit

Sistem ini menggunakan seni bina pemendapan wap fizikal hibrid yang menggabungkan teknologi sputtering magnetron dan arka katodik.

Sinergi Berbilang-Sumber:

Operasi serentak atau berurutan bagi berbilang katod membolehkan peralihan komposisi secara mendadak atau berperingkat merentas timbunan filem.

 

Pra{0}}Pembersihan Ion:

Peringkat pembersihan plasma RF atau DC membuang oksida asli dan bahan cemar permukaan sebelum pemendapan untuk memaksimumkan salutan-kepada-lekatan substrat.

Kawalan Pemendapan Reaktif:

Spektroskopi pelepasan optik{0}}gelung tertutup (OES) mengawal selia suntikan gas reaktif (O2, N2, C2H2) untuk mengekalkan stoikiometri kompaun yang stabil dan mencegah keracunan sasaran.

Bias Substrat:

Bekalan kuasa pincang berdenyut yang disegerakkan membedil filem yang semakin meningkat dengan-ion tenaga yang tinggi, memadatkan struktur mikro dan menyesuaikan tegasan mampatan sisa.

 

Bahan Filem

Peralatan ini menyokong spektrum luas bahan sasaran untuk keperluan fungsi yang disesuaikan:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Nitrida & Karbida Logam Peralihan:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN untuk rintangan haus dan kakisan.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Sistem Nanokomposit & Berbilang Lapisan:

TiSiN, AlTiSiN, lapisan nano logam/seramik untuk kekerasan melampau dan-kestabilan terma suhu tinggi.

 
PVD Composite Thin Film System

Oksida Konduktif Lutsinar (TCO):

ITO, AZO, IGZO untuk aplikasi optoelektronik dan fotovoltaik.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Logam & Aloi Tulen:

Ti, Cr, Al, Cu, Keluli Tahan Karat, NiCr untuk sentuhan elektrik dan lapisan penghalang resapan.

 
Aplikasi
 
 
 

Alat Pemotong Ketepatan:

Pemendapan salutan geseran yang sangat-keras-rendah (cth, TiAlN) pada sisipan karbida, gerudi dan penghujung-kilang untuk memanjangkan jangka hayat operasi di bawah beban haba yang tinggi.

 
 

Komponen Automotif:

Filem kalis-pengurangan dan haus{1}}geseran pada gelang omboh, bahagian suntikan bahan api dan pemasangan gear.

 
 

Optoelektronik & Paparan:

Rintangan-rendah,-tinggi penghantaran lapisan oksida konduktif untuk panel sentuh dan substrat sel suria.

 
 

Peranti Perubatan:

Salutan biokompatibel dan tahan haus-pada instrumen pembedahan dan implan ortopedik.

 

 

Penyesuaian & Konfigurasi Sistem

Konfigurasi kejuruteraan disesuaikan dengan kekangan kemudahan pengeluaran khusus dan resipi proses:

Saiz Ruang:

Pilihan ruang silinder atau segi empat tepat daripada sistem kelompok R&D (diameter 500 mm) kepada sistem kunci-beban pengeluaran berskala besar-(1000 mm+).

01

Pemilihan Suite Pam:

Pemadanan akar, pam turbomolekul dan pam kriogenik berdasarkan masa pemadaman-pam dan profil beban gas yang diperlukan.

02

Pemasangan substrat:

Peringkat putaran planet yang diperibadikan, 3-putaran satelit paksi atau modul-gelek yang direka bentuk untuk geometri 3D kompleks atau web berterusan.

03

Tahap Automasi:

Konfigurasi beban manual separa automatik atau sistem pemindahan vakum automatik sepenuhnya dengan pengendalian substrat robotik.

04

 

Pembuatan & Kawalan Kualiti
 

Pengesanan Kebocoran:

Setiap ruang vakum menjalani ujian kebocoran spektrometer jisim helium ke ambang < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Pemeriksaan Kimpalan:

Kimpalan sisi vakum-dikimpal TIG, dikisar dan digilap, diikuti dengan pemeriksaan-sinar X atau penembus pewarna atas permintaan.

Pematuhan Elektrik & Keselamatan:

Panel kawalan dibina mengikut piawaian NFPA 79 atau CE/IEC, menampilkan interlock perkakasan untuk aliran air, tekanan gas dan keselamatan elektrik.

Ujian Penerimaan Kilang (FAT):

Ujian pra-penghantaran termasuk 72-berbasikal kering berterusan-, pengesahan prestasi vakum dan pemendapan salutan ujian menggunakan resipi khusus pelanggan.

 

 

Pemasangan & Sokongan Teknikal

Garis Panduan Penyediaan Tapak:Dokumen keperluan kemudahan yang komprehensif disediakan yang memperincikan antara muka utiliti (aliran/tekanan air penyejuk, beban elektrik, udara termampat, ekzos).


Pada-Pentauliahan Tapak:Jurutera perkhidmatan lapangan melaksanakan penjajaran mekanikal, pemeriksaan kebocoran vakum, pengikat-elektrik dan penentukuran awal.


Proses Penalaan Resipi:Kerjasama di tapak-dengan ahli metalurgi pelanggan dan jurutera proses untuk mengunci parameter ketebalan, tegasan dan kekerasan filem sasaran.


Sokongan Kitaran Hayat:Antara muka diagnostik jauh, inventori alat ganti setempat dan program penyelenggaraan pencegahan berjadual.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

Soalan Lazim

 

 

S: Apakah masa turun pam biasa-untuk mencapai tekanan asas?

J: Menggunakan konfigurasi vakum -tinggi standard (pam turbomolekul atau kriogenik yang dipasangkan dengan pam penyokong akar/ram berputar), ruang itu berpindah dari atmosfera kepada < 5.0 x 10^-4 Pa dalam masa 25 hingga 40 minit, bergantung pada isipadu ruang dan beban keluar gas lembapan.

S: Bolehkah sistem bertukar antara mod sputtering reaktif dan bukan{0}}reaktif secara automatik?

A: Ya. Perisian kawalan PLC mengurus pengawal aliran jisim (MFC) dan output bekalan kuasa secara dinamik, membolehkan peralihan automatik antara pemendapan logam dan pembentukan sebatian reaktif dalam satu kitaran proses.

S: Apakah geometri substrat yang boleh ditampung oleh peringkat putaran planet standard?

J: Lekapan planet 3 paksi standard mengendalikan komponen 3D yang kompleks seperti alat pemotong dan injap automotif. Jig tersuai boleh direka bentuk untuk substrat rata sehingga 400 mm x 400 mm atau gulungan silinder.

S: Bagaimanakah anda memastikan keseragaman ketebalan filem merentasi kumpulan besar?

J: Keseragaman dicapai melalui katod yang dioptimumkan-ke-jarak substrat, simulasi profil medan magnet setempat dan-putaran planet berbilang paksi. Keseragaman sebenar disahkan melalui ujian sampel saksi semasa FAT.

S: Apakah keperluan utiliti untuk unit industri standard?

A: Lazimnya memerlukan 3 fasa 380V/480V (50/60Hz), bekalan air penyejuk sejuk (kira-kira 15 hingga 20 darjah pada 3 hingga 4 bar), udara termampat (6 bar) untuk injap pneumatik, dan udara kering bersih atau nitrogen untuk pengudaraan. Beban tepat berbeza mengikut konfigurasi bekalan kuasa.

Kami terkenal-sebagai salah satu pengeluar dan pembekal peralatan filem nipis komposit pvd terkemuka di China. Jika anda akan membeli peralatan filem nipis komposit pvd tersuai yang dibuat di China, dialu-alukan untuk mendapatkan senarai harga dari kilang kami. Untuk rundingan harga, hubungi kami.

Hantar pertanyaan
Hubungi kamijika anda mempunyai sebarang soalan

Anda boleh sama ada menghubungi kami melalui telefon, e-mel atau borang dalam talian di bawah. Pakar kami akan menghubungi anda kembali sebentar lagi.

Hubungi sekarang!