Gambaran Keseluruhan Produk

 

Peralatan Filem Nipis Penyejatan Rasuk Elektron ini direka bentuk untuk-pemendapan wap fizikal (PVD) berketepatan tinggi. Menggunakan pancaran elektron tenaga-tinggi yang difokuskan untuk membedil bahan sumber, sistem mencapai kadar penyejatan yang tinggi untuk logam, oksida dan bahan dielektrik-tinggi-yang tinggi.


Dibina pada seni bina vakum modular, sistem ini memuatkan berbilang-senjata elektron poket, lekapan substrat yang boleh disesuaikan dan pemantauan-situ termaju. Ia menyediakan makmal R&D dan-proses pengeluaran tinggi yang memerlukan kawalan ketat ke atas stoikiometri filem, lekatan dan prestasi optik.

 
 
Spesifikasi Teknikal

 

Parameter

Julat Spesifikasi

Nota / Konfigurasi Standard

Tekanan Asas Muktamad

< 5.0 × 10^-6 Pa

Dicapai melalui kumpulan pengepaman molekul-kriogenik atau turbo

Dimensi Dewan

Disesuaikan (500 mm hingga 1200 mm diameter dalaman)

Keluli tahan karat 304L / 316L, elektro-digilap

E-Penilaian Kuasa Senapang

6 kW hingga 15 kW (Penjana sapu poket berbilang-)

Pesongan rasuk boleh atur cara dan pengindeksan berbilang{0}}crucible

Kadar Pemendapan

0.1 nm/s hingga 10 nm/s

Kawalan gelung-masa nyata-melalui monitor kristal kuarza

Keseragaman Ketebalan Filem

< ±1% to ±2% across standard substrates

Lekapan substrat planet atau kubah dengan putaran kelajuan berubah-ubah

Suhu Substrat

Ambien hingga 800 darjah

Pemanasan berseri bersepadu dengan maklum balas haba PID

 

Ciri Peralatan Utama

-Senapang Elektron Kestabilan Tinggi:

Menampilkan pesongan magnetik dan pemfokusan berbilang-mata untuk mengelakkan kepanasan terlampau setempat bahan sumber dan menghapuskan ludah semasa penyejatan reaktif.

Reka bentuk Crucible Modular:

Dilengkapi dengan 4 hingga 6-poket perapian boleh diindeks, membenarkan pemendapan berbilang lapisan tanpa memecahkan vakum.

 

Interlock Vakum Lanjutan:

PLC-injap pneumatik terkawal, penjujukan vakum automatik/tinggi{1}}dan saling kunci melindungi daripada kegagalan air penyejuk dan anomali kuasa.

Bilik Pencemaran-Rendah:

Perisai dalaman menggunakan-keluli tahan karat yang digilap dengan pelapik boleh tanggal untuk pengurangan zarah yang cepat dan pemulihan penyelenggaraan.

 

 

Bahan Filem & Substrat

 

Bahan Penyejatan Serasi

Logam: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektrik & Oksida: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO

 

Jenis Substrat

Wafer silikon (2 inci hingga 12 inci)
Kaca optik, silika bercantum, dan substrat kuarza
Filem polimer fleksibel (polyimide, PET melalui modul-ke-gulungan)
Substrat seramik (Al2O3, AlN)

 
 
 
Aplikasi
High Vacuum Electron Beam Evaporation Equipment

Salutan Optik:

Salutan anti-pantulan (AR), penapis jalur-sempit dan-cermin pantulan tinggi untuk sistem laser dan fotonik.

Electron Beam Thin Film Deposition System

Peranti Semikonduktor:

Pembentukan sesentuh ohmik, pemekatan get dan pemrosesan angkat-untuk mikroelektronik.

Electron Beam Vacuum Evaporation Equipment

Optoelektronik:

Lapisan oksida pengalir lutsinar (TCO) dan filem nipis untuk paparan OLED dan sel fotovoltaik.

Electron Beam Evaporation Thin Film System

R&D lanjutan:

Penerokaan lapisan magnet-filem nipis, filem superkonduktif dan heterostruktur berbilang-lapisan.

 

Penyesuaian & Konfigurasi Sistem
 
 

Setiap-sistem filem nipis dikonfigurasikan untuk memadankan resipi proses dan reka letak kemudahan tertentu. Penyesuaian kejuruteraan yang tersedia termasuk:

 

Pemilihan Tindanan Mengepam:

Konfigurasi resapan-turbo (TMP), pam krio atau minyak{1}}disesuaikan dengan keperluan vakum asas dan pemprosesan.

 
 

Muatkan-Integrasi Kunci:

Muatan manual-kunci atau sistem kluster berbilang-berautomasi untuk mengekalkan-integriti vakum ultra tinggi dan meningkatkan daya pemprosesan wafer.

 
 

Metrologi-In Situ:

Port penyepaduan untuk elipsometer spektroskopik, monitor optik atau penganalisis gas sisa (RGA).

 
 

Perisian Kawalan:

Antara muka PLC/HMI proprietari dengan penyimpanan resipi, pengelogan data dan protokol komunikasi SECS/GEM untuk penyepaduan kilang pintar.

 

 

 
 
Pembuatan & Kawalan Kualiti
01.

Pembuatan Kapal:

Semua ruang vakum menjalani ujian kebocoran spektrometer jisim helium dengan ambang penolakan < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.

02.

Integriti Kimpalan:

Kimpalan TIG dilakukan di bawah perisai gas lengai, diikuti dengan pempasifan permukaan dalaman dan penggilap mekanikal untuk mengurangkan keluar gas.

03.

Ujian Penerimaan Kilang (FAT):

72-jam kering berterusan-jalankan ujian mengukur lengkung pengepaman, ketepatan sapuan e-gun, masa tindak balas saling kunci dan kestabilan terma sebelum peti.

04.

Pematuhan & Piawaian:

Dikilangkan di bawah sistem pengurusan kualiti yang diperakui ISO 9001, dengan sistem yang direka bentuk untuk memenuhi arahan CE dan garis panduan keselamatan dan ergonomik SEMI (S2/S8) yang berkaitan.

 

Pemasangan & Sokongan Teknikal
Pada-Pentauliahan Tapak:
-Jurutera perkhidmatan diperakui kilang mengendalikan kedudukan mekanikal, sambungan utiliti (kuasa, air penyejuk, udara termampat) dan pemanggang vakum awal-keluar.
Penalaan Proses:
Percubaan kolaboratif dijalankan menggunakan substrat-yang ditentukan pelanggan untuk mengesahkan kadar pemendapan, keseragaman dan lekatan filem.
Penyelenggaraan kitaran hayat:
Ketersediaan alat ganti terjamin untuk-komponen haus tinggi (filamen, crucible, perisai) dan sokongan diagnostik jauh melalui sambungan VPN industri yang disulitkan.

 

 

Soalan Lazim

 

 

S: Apakah masa utama biasa untuk konfigurasi sistem standard?

J: Konfigurasi standard dihantar dalam tempoh 16 hingga 20 minggu dari tarikh kelulusan. Sistem tersuai tinggi yang memerlukan konfigurasi kunci-pemuatan khas atau julat geometri ruang bukan standard dari 24 hingga 30 minggu.

S: Bagaimanakah anda menghalang pencemaran-bahan antara penyejat yang berbeza?

J: Sistem ini menggunakan air individu-poket perapian yang disejukkan yang dipisahkan oleh halangan haba dan fizikal, ditambah pula dengan corak sapuan rasuk elektron yang dioptimumkan yang menghilangkan percikan bahan.

S: Apakah keperluan utiliti kemudahan untuk sistem 10 kW?

A: Requirements typically include 3-phase 380V/480V AC power, closed-loop chilled water supply (10–15°C, flow rate >30 L/min), dan udara termampat kering (0.6–0.8 MPa) untuk injap pneumatik.

Kami terkenal-sebagai salah satu pengeluar dan pembekal peralatan filem nipis penyejatan rasuk elektron terkemuka di China. Jika anda akan membeli peralatan filem nipis penyejatan rasuk elektron tersuai buatan China, dialu-alukan untuk mendapatkan senarai harga dari kilang kami. Untuk rundingan harga, hubungi kami.

Hantar pertanyaan
Hubungi kamijika anda mempunyai sebarang soalan

Anda boleh sama ada menghubungi kami melalui telefon, e-mel atau borang dalam talian di bawah. Pakar kami akan menghubungi anda kembali sebentar lagi.

Hubungi sekarang!