Penerangan Peralatan:
· Pengenalan peralatan:
Peralatan filem nipis yang dipertingkatkan plasma ialah teknologi salutan ion tulen (rasuk ion tulen),-teknologi pembersihan rasuk ion tenaga tinggi (Ionbeam), teknologi Magnetron Sputter (Sputter) dan pemendapan wap kurungan magnetik (Kurungan magnet-CVD) ialah empat teknologi dalam satu teknologi PVD, yang merupakan teknologi gabungan PVD yang sempurna.
Peralatan filem nipis yang dipertingkatkan plasma menyediakan kombinasi proses yang lebih fleksibel untuk memenuhi pelbagai keperluan produk yang kompleks, dan proses hibridnya yang berkuasa memberikan lebih banyak kemungkinan untuk pereka proses.
Peralatan filem nipis dipertingkatkan plasma pengenalan ringkas fungsi peralatan:
(1) Sumber salutan ion tulen, menggunakan sistem penapisan elektromagnet yang cekap, mengeluarkan zarah dengan berkesan, mendapatkan rasuk ion ketulenan yang lebih tinggi, membantu meningkatkan kekerasan salutan dan daya pengikat;
(2) Sumber pembersihan rasuk ion tenaga tinggi, menggunakan struktur pelepasan yang direka khas, serasi dengan berkesan dengan pengaktifan pembersihan plasma, pengionan tambahan, pemendapan bebas dan fungsi lain;
(3) Magnetron sputtering sumber, menggunakan reka bentuk medan magnet yang inovatif, berkesan meningkatkan kadar penggunaan sasaran lebih daripada 30%;
(4) Sumber pemendapan wap terkurung secara magnetik, struktur yang boleh dipercayai dan mudah diselenggara, boleh mencapai pemendapan salutan yang cepat dan halus.
Jenis salutan biasa:
(1) Me-TAC, salutan komposit TAC logam, digunakan secara meluas
(2) Me-DLC, salutan komposit DLC logam, digunakan secara meluas
(3) Me-TAC-DLC, TAC-Salutan komposit DLC, sambil memperoleh kekerasan asas yang lebih tinggi dan daya ikatan TAC, mempunyai kadar pemendapan dan penampilan halus DLC.
· Kelebihan peralatan:
peralatan filem nipis dipertingkatkan Plasma ekspres boleh merealisasikan gabungan TAC-DLC, yang meningkatkan daya ikatan dengan sangat baik berbanding dengan CVD ringkas, sambil mengurangkan saiz zarah PVD dan memendekkan masa proses.
peralatan filem nipis dipertingkatkan Plasma ekspres boleh mencapai pelbagai proses pemendapan filem C, TAC penyaduran ion tulen, DLC nyahcas kurungan magnet, DLC penyaduran sumber ion lapisan anod, dsb.
peralatan filem nipis yang dipertingkatkan Plasma ekspres dilengkapi dengan peranti dan perisian pengimbasan elektromagnet, yang boleh mengawal arah rasuk plasma pada titik dan masa yang tetap, sangat meningkatkan masalah keseragaman salutan, dan keseragaman keseluruhan lapisan filem relau dikawal di bawah ±5%; ekspres Reka bentuk medan magnet yang dioptimumkan dan reka bentuk penyejukan, penyelenggaraan mudah, kestabilan peralatan yang baik;
ekspres Friendly man-antara muka mesin, masa sebenar-rakaman data proses, kondusif untuk kawalan kualiti, analisis sukar, pembangunan proses baharu;
ekspres Projek ini adalah peralatan turnkey, syarikat Pure Source menyediakan penyelesaian lengkap, termasuk formula salutan matang yang stabil.
Medan Permohonan:
Universiti ekspres dan institut penyelidikan, pembuatan bahan guna industri, industri elektronik pengguna, dsb.;
komponen enjin utama ekspres untuk kereta dan kenderaan diesel;
menyatakan Bahagian utama industri tekstil;
ekspres High{0}}alat pemotongan dan industri peralatan perubatan;
Jenis Salutan:
|
Jenis salutan |
Julat suhu pemendapan |
Kekerasan mikro(HV) |
Kuasa mengikat salutan (N) |
Suhu perkhidmatan maksimum (darjah) |
Ketebalan (μm) |
|
Super-ta-C |
<150℃ |
4000-5500 |
Lebih besar daripada atau sama dengan 35N |
600 darjah (di bawah N2perlindungan) |
1-2 |
|
Ta normal-C |
<150℃ |
2000-4500 |
Lebih besar daripada atau sama dengan 35N |
350 darjah |
2-4 |
|
Ta tebal-C |
<150℃ |
1800-2200 |
Lebih besar daripada atau sama dengan 35N |
350 darjah |
5.5-8 |
|
Ultra-Ta tebal-C |
<150℃ |
1800-2200 |
Lebih besar daripada atau sama dengan 35N |
350 darjah |
20-28 |
|
DLC |
<120℃ |
1700-2500 |
Lebih besar daripada atau sama dengan 30N |
250 darjah |
2-20 |
Cool tags: peralatan filem nipis dipertingkatkan plasma, pengeluar peralatan filem nipis dipertingkatkan plasma China, pembekal, kilang, အဆင့်မြင့်ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်ပစ္စည်းကိရိယာများ, ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်ပေါင်းစပ်ပစ္စည်းကိရိယာများ, ပါးလွှာသောရုပ်ရှင် CVD စနစ်, ပါးလွှာသောရုပ်ရှင် sputtering system ကို, မြင့်မားသောတိကျစွာပါးလွှာသောရုပ်ရှင်ပစ္စည်းကိရိယာများ, ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်ကြံစည်မှုပစ္စည်းကိရိယာများ
