Mesin salutan magnetron sputtering

Mesin salutan magnetron adalah teknologi sputtering plasma yang dikawal oleh medan magnet. Prinsip kerja mesin salutan magnetron adalah menggunakan medan magnet untuk mengawal zarah -zarah yang dikenakan dalam plasma, supaya ia menghasilkan plasma ketumpatan tinggi di permukaan sasaran, untuk mencapai proses sputtering yang cekap. Mesin salutan magnetron terutamanya termasuk ruang vakum, bahan sasaran, substrat, sistem medan magnet, sistem bekalan gas dan sistem bekalan kuasa. Dalam proses sputtering, ruang vakum mula -mula dipam ke keadaan vakum yang tinggi, dan kemudian gas lengai (seperti argon) disuntik. Di bawah tindakan medan elektrik, gas argon diionkan ke dalam ion argon dan elektron. Argon ion membombardir permukaan sasaran di bawah pecutan medan elektrik, yang menjadikan atom sasaran atau molekul menjadi sputtered. Pada masa yang sama, elektron terikat berhampiran permukaan sasaran di bawah tindakan medan magnet, membentuk plasma berkepadatan tinggi, yang meningkatkan kadar sputtering. Atom sasaran atau molekul yang disimpan disimpan di substrat untuk membentuk filem. Mesin salutan magnetron boleh digunakan secara meluas dalam mikroelektronik, optoelektronik, nanoteknologi, bahan baru dan bidang lain, menyediakan kaedah penyediaan filem yang cekap dan mesra alam untuk industri moden dan penyelidikan saintifik.

Magnetron Sputtering Coating Machine mempunyai teknologi teras yang unik, dengan kelebihan berikut:

1. Kadar pemendapan cepat. Mesin salutan magnetron boleh mendapatkan aliran ion yang besar disebabkan oleh penggunaan elektrod magnetron berkelajuan tinggi, yang secara berkesan meningkatkan kadar pemendapan dan kadar sputtering semasa proses salutan.

2, kecekapan kuasa tinggi. Mesin sputtering magnetron umumnya memilih voltan yang sesuai untuk memastikan peralatan itu hanya dalam pelbagai kecekapan kuasa yang paling berkesan.

3. Tenaga Sputtering Rendah. Memohon voltan rendah boleh menghalang zarah -zarah yang dikenakan tenaga yang lebih tinggi dari insiden pada substrat dan mengelakkan ubah bentuk substrat produk.

4. Bahan sasaran komposit. Antara muka universal modular, secara langsung serasi dengan pelbagai bentuk sasaran katod, yang membolehkan denyut DC, jika, mod kerja RF; Keserasian yang kuat;

Pelbagai aplikasi. Terdapat banyak elemen yang boleh didepositkan oleh mesin salutan magnetron, yang biasa ialah: Cu, Au, Cr, Ni, Ta, Tin, Tic, Ticn, TiAln, CRN dan filem-filem oksida logam, bukan logam dan seramik dan filem komposit;